“还要等我来？我不相信你们没有提前测试过！”关飞笑呵呵地跟他们每个人握手，风趣地说道。…≦
“我们当然测试过了。可是没有经过司令的确认，最终认可，我们还是感到有些心里不踏实，总觉得好像是在做梦一样！”几个研究员笑得合不拢嘴，搓着手不好意思道。
“有什么不踏实的，无非就是这些电路罢了。”关飞笑笑，在他们急于开口前摆摆手，“好，好，把东西拿出来吧，我来一个一个全部测试一遍。要不然，你们也不能放心！”
他并不以为这批芯片会有什么大问题。
这个时代的集成电路水平，还处于发展初期，一平方厘米大小的硅晶元基片上，元器件集成度最高能达到三万左右。
国内虽说是跟着人家脚步走，但走得并不慢。
当美国人于一九四六年发明第一台计算机，国内于五七年，由哈尔滨大学研制出国内第一台模拟计算机，比西方晚了差不多十一年。
随后在第二年，就在苏联专家协助下研制出第一台数字计算机。
五六年，美国研发出第二代晶体管计算机。国内紧跟着在六三年，也研制出了第一台大型晶体管计算机，与西方相差七年。
****年，ib研制出世界第一台集成电路计算机。随后国内于七三年也研制出自己的第一台全集成电路大型计算机，运算速度首次突破百万级。并且所用的操作系统，全部由自己开发。
至此，可以看出，国内虽然始终要比西方慢，但双方的差距一直在十年之内。最短的时候，追到了七年以内。
然而国内重理论、轻实践；重军用、轻民用的思想，对计算机研制带来了严重影响。
在国外逐渐将目光投向计算机小型化、商业化、民用化的时候，国内却矢志不渝坚持研制大型机、超大型机。以科研、军用作为研发目标，逐渐跟西方计算机发展思路形成了两条并行的道路。
小型化不是没做，但国家资源不足，在其中投入资源跟大型机相比相距甚远。而且小型机研制出来以后，基本都没有批量投产，只生产几台、十几台、数十台，多也不过一两百台，少量供给科研机构使用。跟美国蓬勃发展的商业用小型计算机、民用微型计算机相比，根本不是一个等量级。
不过即便如此，国内对于集成电路的研究却没停止。
集成电路制造所必须的光刻、氧化、扩散、蒸发等工艺，国内在六十年代就已学会。只是设备较差、具体的制备工艺掌握得不好，比起欧美，所生产的集成电路要差一个世代级。
比如这个时候，美国的集成电路制备水平大约是一万到三万之间，国内最好的水平就只能达到六千左右。
差距肯定有，还很大，但并非绝望。
关飞就不把这点差距看在眼里，晶圆制备、光刻技术、蒸发技术、氧化技术、扩散技术等关键制备技术，在这个时代看起来还高深无比，但在他眼中并不比制造晶体管更复杂。在他一年来的指导下，军分区半导体研究所已经取得了巨大成果，相继达到了美国同等水平。
军分区改造、自制的三英寸实验用晶圆制备机、光刻机等设备，精度高、控制精确，再由他优化了工艺流程，尽管产量还很低，但已经可以制备出集成三万元器件的处理起来。
前期两次试验，晶元制备良品率被很好地控制在百分之九十七上下，而集成电路制备的良品率则达到了百分之九十五。
对于集成电路制备来说，晶元制备良品率，与芯片制备良品率可不是相加关系，而是乘积关系。每多一个步骤，都会大幅降低最终产品的良品率产出。
“我们当然测试过了。可是没有经过司令的确认，最终认可，我们还是感到有些心里不踏实，总觉得好像是在做梦一样！”几个研究员笑得合不拢嘴，搓着手不好意思道。
“有什么不踏实的，无非就是这些电路罢了。”关飞笑笑，在他们急于开口前摆摆手，“好，好，把东西拿出来吧，我来一个一个全部测试一遍。要不然，你们也不能放心！”
他并不以为这批芯片会有什么大问题。
这个时代的集成电路水平，还处于发展初期，一平方厘米大小的硅晶元基片上，元器件集成度最高能达到三万左右。
国内虽说是跟着人家脚步走，但走得并不慢。
当美国人于一九四六年发明第一台计算机，国内于五七年，由哈尔滨大学研制出国内第一台模拟计算机，比西方晚了差不多十一年。
随后在第二年，就在苏联专家协助下研制出第一台数字计算机。
五六年，美国研发出第二代晶体管计算机。国内紧跟着在六三年，也研制出了第一台大型晶体管计算机，与西方相差七年。
****年，ib研制出世界第一台集成电路计算机。随后国内于七三年也研制出自己的第一台全集成电路大型计算机，运算速度首次突破百万级。并且所用的操作系统，全部由自己开发。
至此，可以看出，国内虽然始终要比西方慢，但双方的差距一直在十年之内。最短的时候，追到了七年以内。
然而国内重理论、轻实践；重军用、轻民用的思想，对计算机研制带来了严重影响。
在国外逐渐将目光投向计算机小型化、商业化、民用化的时候，国内却矢志不渝坚持研制大型机、超大型机。以科研、军用作为研发目标，逐渐跟西方计算机发展思路形成了两条并行的道路。
小型化不是没做，但国家资源不足，在其中投入资源跟大型机相比相距甚远。而且小型机研制出来以后，基本都没有批量投产，只生产几台、十几台、数十台，多也不过一两百台，少量供给科研机构使用。跟美国蓬勃发展的商业用小型计算机、民用微型计算机相比，根本不是一个等量级。
不过即便如此，国内对于集成电路的研究却没停止。
集成电路制造所必须的光刻、氧化、扩散、蒸发等工艺，国内在六十年代就已学会。只是设备较差、具体的制备工艺掌握得不好，比起欧美，所生产的集成电路要差一个世代级。
比如这个时候，美国的集成电路制备水平大约是一万到三万之间，国内最好的水平就只能达到六千左右。
差距肯定有，还很大，但并非绝望。
关飞就不把这点差距看在眼里，晶圆制备、光刻技术、蒸发技术、氧化技术、扩散技术等关键制备技术，在这个时代看起来还高深无比，但在他眼中并不比制造晶体管更复杂。在他一年来的指导下，军分区半导体研究所已经取得了巨大成果，相继达到了美国同等水平。
军分区改造、自制的三英寸实验用晶圆制备机、光刻机等设备，精度高、控制精确，再由他优化了工艺流程，尽管产量还很低，但已经可以制备出集成三万元器件的处理起来。
前期两次试验，晶元制备良品率被很好地控制在百分之九十七上下，而集成电路制备的良品率则达到了百分之九十五。
对于集成电路制备来说，晶元制备良品率，与芯片制备良品率可不是相加关系，而是乘积关系。每多一个步骤，都会大幅降低最终产品的良品率产出。